Technologie de fabrication

 
La technologie de fabrication la plus utilisée est la gravure profonde, dite DRIE. Cette technologie est constituée des étapes suivantes:

1. Illumination du wafer recouvert de résine

    photosensible au travers d'un masque

2. Développement de la résine

3. Gravure profonde du silicium

4. Libération des pièces 

Le silicium est un matériau

>  Léger : masse volumique 2.33 kg/dm3                                                                                                             

>  Elastique : 130-170 GPa

>  Usinable avec des précisions micrométriques et

     submicrométriques