Technologie de fabrication
La technologie de fabrication la plus utilisée est la gravure profonde, dite DRIE. Cette technologie est constituée des étapes suivantes:
1. Illumination du wafer recouvert de résine photosensible au travers d'un masque2. Développement de la résine 3. Gravure profonde du silicium 4. Libération des pièces |
Le silicium est un matériau
> Léger : masse volumique 2.33 kg/dm3 > Elastique : 130-170 GPa> Usinable avec des précisions micrométriques et submicrométriques |